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La deposizione sputtering è un processo PVD in cui un materiale viene vaporizzato da una superficie detta target attraverso uno sputtering fisico grazie a un plasma generato a bassa pressione.
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La deposizione sputtering è un processo PVD in cui un materiale viene vaporizzato da una superficie detta target attraverso uno sputtering fisico grazie a un plasma generato a bassa pressione.
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